乌鸦观察
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——地狱乌鸦
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#光刻机
#1nm
【ASML和IMEC基本完成
1nm
光刻机设计】
IMEC公司首席执行官兼总裁Luc Van den hove首先发表了主题演讲,介绍了公司研究概况,他强调通过与ASML公司紧密合作,将下一代高分辨率EUV光刻技术——高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调,将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。
在ITF Japan 2020上,IMEC提出了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的逻辑器件小型化路线图。(
IT之家
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