荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）週三發表2022年年報，披露 一名在中國的職員曾未獲授權便擅自挪用公司的專利技術，這個行動違反了某些出口管制規例 。

荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）昨天披露， 曾經有一名在中國的員工偷走了公司的專利技術 ，彭博引述消息人士跟進報導，指出 被偷走的是來自產品管理週期（PLM）軟件的數據，這個軟件儲存了艾司摩爾的光刻系統的資料 。

荷蘭政府終於證實， 該國會配合美國封殺中國半導體業的措施，進一步收緊半導體設施出口限制，擴至深紫外光刻機（DUV）也要面對限制 。

荷蘭不准光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）向中國出口先進深紫外光刻機（DUV）的法例週五刊憲，9月1日生效 。